氮?dú)饧兓O(shè)備的主要原理說明
更新時(shí)間：2021-05-21 點(diǎn)擊次數(shù)：7315
氮?dú)饧兓O(shè)備以深冷法制氮、PSA變壓吸附制氮，氮膜分離制氮的普通氮?dú)鉃樵?，?jīng)過加氫催化除氧，冷凝、吸附二級(jí)干燥，過濾，除去氮?dú)庵械碾s質(zhì)氧、二氧化碳、水份和塵埃，獲得高純度的氮?dú)狻?div> 用戶對(duì)純氮中的含氫量有特殊要求時(shí)，可通過工藝手段來控制氮?dú)庵械臍錃夂俊Ｈ粼系难鹾砍^0.1%時(shí)，則可用加氫除氧和除氫的方式來獲得無氫高純氮，若原料氮的氧含量小于0.1％，則采用化學(xué)除氧工藝方法。
高純氮?dú)鈴V泛應(yīng)用于電子、冶金、化工、熱處理、化纖、食品等部門，有些熱處理工藝需要在氮?dú)庵屑尤胍欢ū壤臍錃鈺r(shí)，可提供自動(dòng)加氫裝置。
氮?dú)饧兓O(shè)備先將原料氫氣加熱后，使其進(jìn)入裝有鈀催化劑的除氧器。在除氧器中氫氣中的微量氧與氫氣在催化劑作用下，發(fā)生氫氧反應(yīng)生成水汽O2+2H2→2H2O，再經(jīng)冷凝除水達(dá)到除氧之目的。經(jīng)除氧、除水后的氫氣再經(jīng)裝有分子篩的干燥器進(jìn)行深度吸附干燥處理。從而獲得含水量、含氧量極低的高純氫氣。
氮?dú)饧兓O(shè)備的主要特點(diǎn)：
1.工藝流程簡(jiǎn)單、除氧深度深、露點(diǎn)低；
2.電氣裝置按隔爆要求設(shè)計(jì)；
3.運(yùn)行成本低，設(shè)備投資少；
4.操作方便、維護(hù)簡(jiǎn)便；
5.可靠性高。
高純氮?dú)庵笜?biāo)：
1.壓力：0.5-0.6Mpa(可調(diào))；
2.常壓露點(diǎn)≤－70℃；
3.氧含量≤3ppm；
4.氫含量：500-2000ppm；
5.氮?dú)饬浚?0-5000Nm3/hr。
